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观察:中国等离子体刻蚀机性能一流 但只是造芯片的"配角"(2)

2019-02-14 12:16 来源:观察者网

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  上述专家称赞说,尹博士以及中微的核心技术团队,基本都是从国际知名半导体设备大厂出来的,尹博士原来就在国外获得了诸多的技术成就。中微不断提高改进,逐步在芯片刻蚀机领域保持了与国外几乎同步的技术水平。

  在IC业界工作多年的电子工程师张光华告诉科技日报记者:“一两年前网上就有中微研制5纳米刻蚀机的报道。如果能在台积电应用,的确说明中微达到世界领先水平。但说中国芯片‘弯道超车’就是夸大其词了。”

  “硅片从设计到制造到封测,流程复杂??淌词侵圃旎方诘墓ば蛑?,还有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、掺杂、测试等等,都需要复杂的技术。中国在大部分工序上落后。”张光华说,“而且,中微只是给台积电这样的制造企业提供设备,产值比台积电差几个数量级。”

  科技日报记者发现,2017年开始网络上经常热炒“5纳米刻蚀机”,而中微公司一再抗议媒体给他们“戴高帽”。

  “不要老把产业的发展提高到政治高度,更不要让一些新闻人和媒体搞吸引眼球的不实报导。”尹志尧2018年表示,“对我和中微的夸大宣传搞得我们很被动……过一些时候,又改头换面登出来,实在让我们头痛。”(高 博)

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